微米光刻机和纳米光刻机(光刻机和刻蚀机的区别)_办公百科

admin

2023-02-02 12:43:25

大家好，小纵来为大家解答以上问题。中国首台5纳米光刻机，蚀刻机和光刻机区别这个很多人还不清楚，现在一起跟着小编来瞧瞧吧！

1、蚀刻比光刻容易。

2、光刻机印出设计，然后蚀刻机根据印出的图案蚀刻掉有图案(或无图案)的部分，剩下的。

3、 “光刻是指用预先制作好的光掩模覆盖在涂有光刻胶的晶片(或硅片)上，然后通过光掩模用紫外线照射晶片一定时间。

4、原理是利用紫外光使部分光刻胶变质，容易腐蚀。

5、 “刻蚀是在光刻之后，用刻蚀液将光刻胶的劣化部分刻蚀掉(正胶)，在晶片表面显示出半导体器件及其连接图形。

6、然后使用另一种蚀刻溶液蚀刻晶片以形成半导体器件及其电路。

7、蚀刻有两种，一种是干法蚀刻，一种是湿法蚀刻(目前主流)。顾名思义，湿法刻蚀就是在工艺中加入水，光刻后的晶片与特定的化学溶液发生反应，去除不需要的部分，留下电路结构。干法刻蚀尚未实现商业化量产，其原理是用等离子体代替化学溶液，去除不必要的硅圆形部分。

关于中国首台5纳米光刻机，蚀刻机和光刻机区别的介绍到此结束，希望对大家有所帮助。

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